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第七十八章 闲人免进!(第3页)

李建成点点头,转身出了门。

会议室里安静下来,只能听到墙上老式挂钟的滴答声。

而此刻,在走廊另一头的实验室里,气氛却完全不同。

这是一间大约四十平米的实验室,工作台上堆满了图纸,元器件盒,电烙铁,还有几个搪瓷杯子里泡着隔夜的浓茶。

袁祥辉坐在工作台前,手里捏着一支铅笔,眉头紧锁。

他个子不高,穿着一件洗得发白的工作服,上面有好几处被电烙铁烫出的痕迹。

头发乱蓬蓬的,明显好几天没梳过,眼镜片后面的眼睛布满血丝,但眼神却很锐利。

桌上摊着一张画了一半的电路图,旁边是厚厚一摞计算稿纸,密密麻麻写满了公式和数据,很多稿纸被揉成一团扔在地上。

两个学生站在他身后,大气都不敢出。

“还是不行。”

“为什么会这样,到底问题出在哪里?”

袁祥辉把铅笔往桌上一扔,靠在椅背上,摘下眼镜揉了揉太阳穴,有些无奈的说道。

“d工艺的功耗太高了,而且现在的光刻精度根本达不到要求。”

“如果硬要上d,光是读出电路就得消耗两三瓦,这还不算传感器本身的功耗。”

一个胆子大些的学生小声说:“袁老师,那咱们试试pos工艺?功耗降不少。”

“pos?”袁祥辉重新戴上眼镜,皱着眉头,“pos工艺的功耗是低,但速度上不去啊。”

“256位的移位寄存器,速度要求至少1hz,pos能不能做到我心里没底,而且pos的跨导比nos低,噪声性能也差。”

另一个学生翻着手中的笔记本,说:“袁老师,我看国外最新的文献,他们在尝试用d做图像传感器,效果很好,为什么不跟主流?”

“主流?”袁祥辉哼了一声,“主流是人家玩得起的东西,你知道d工艺需要多少步光刻吗?至少十二步!”

“咱们现在实验室的设备,能稳定做六步光刻就不错了,做d?光刻精度不够,出来的片子全是废品,根本是浪费时间。”

说着,他用铅笔在纸上画了个简图:“d的原理是电荷耦合,对工艺均匀性要求极高。”

“二氧化硅的厚度偏差超过百分之五,转移效率就掉得没法看,咱们现在的氧化炉温度控制精度是正负三度,人家国外是正负零点五度,这怎么比?”

“根本一个天上一个地下。”

听着鲜明的数据对比,学生们弱弱的站在一边,不说话了。

袁祥辉又拿起铅笔,在稿纸上写写画画:“pos虽然慢,但工艺简单,八步光刻就够了,关键是怎么把速度提上去。”

“如果用四相时钟,倒是可以降低功耗,但电路复杂度会增加一倍。如果用动态电路,速度是够了,但电荷泄漏问题怎么解决?尤其是在高温环境下,这个问题会更严重”

“到底怎么解决呢?”

他自言自语着,完全沉浸在自己的世界里。

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